从主流晶圆厂Q2招中标数据，看国产设备厂商的突破

最近几年来，在芯片供应短缺和通信，汽车电子等行业需求旺盛的推动下，国内晶圆厂纷纷选择扩大生产，导致设备需求不断上升，国内设备商有望迎来更多机遇。

根据吉为咨询的统计，中国大陆共有23家12英寸晶圆厂，总月产能约为104.2万片相对于计划的156.5万片的月产能，这些晶圆厂的产能负荷率仅为66.58%，还有很大的拓展空间

在产能扩张方面，上海吉它半导体，华虹半导体等公司也相继加入据本报5月5日报道，日前，上海吉它半导体将明确在上海临港新区投资二期项目，预计新增固定资产投资将超过260亿元日前，华虹半导体发布公告称，拟募资180亿元，其中约70%将投向华虹制造无锡项目，约11%用于8英寸晶圆厂优化升级项目，约13%用于技术创新研发项目，约6%用于补充流动资金

伴随着上海吉它半导体和华虹半导体生产线的加快建设，对半导体设备的需求很大根据微电网在招标平台上编制的统计数据，上海吉它半导体和华虹半导体等企业的需求是增长的主要原因今年第二季度，上海吉它半导体，华虹半导体，燕东微电子，杭州吉海半导体等企业招标了1930台设备

从设备类型来看，刻蚀，薄膜沉积等核心设备需求量较大其中光刻设备4台，刻蚀设备49台，薄膜沉积设备74台，工艺检测设备80台，离子注入设备21台，CMP20设备20台，热处理设备36台，清洗设备79台，涂胶显影设备14台

从国内投标企业来看，今年第二季度，上海吉它半导体招标设备714台，蚀刻设备，薄膜沉积和清洗设备为重点采购对象，华虹半导体一共请了108台设备，购买了大量的刻蚀设备和热处理燕东微电子招标89台，其他企业共邀请了1019家单位

从中标的国内设备厂商来看，根据招标平台统计，今年第二季度，北方华创，中威半导体，新源威，东京电子，ASML等企业中标643件设备，其中国内设备厂商中标387件设备。

北方华创中标80器件，中微半导体中标22器件，芯微中标24器件，鄂唐半导体中标12器件，拓晶科技中标11器件，中科飞测中标7器件，上海微电子中标6器件，华海清科中标8器件从国外设备厂商来看，ASML中标7台设备，林凡半导体中标16台设备，KLA中标18台设备，应用材料中标21台设备，东京电子中标87台设备

更换国产设备正是时候从主要环节看，国内光刻，刻蚀，薄膜沉积等多点开花，都有不同程度的突破

光刻方面，ASML中标5台光刻机，占据行业领先地位，上海微电子中标步进式光刻机根据消息显示，上海微电子的SSX600系列步进扫描投影光刻机可以满足IC前道制造90nm，110nm，280nm关键层和非关键层的光刻工艺要求此外，今年2月，上海微电子成功交付首台2.5D3D高级封装光刻机，对国内集成电路行业意义重大

在刻蚀工艺上，北方华创和中微半导体中标38台刻蚀设备，超过林凡半导体和东京电子之和19台北方华创中标16台蚀刻设备，其中上海中心大厦13台，株州CRRC时代1台，北京大学1台，上海新微半导体1台北方华创ICP刻蚀技术优势明显，其自主研发的14 nm等离子硅刻蚀机已成功进入主流项目生产线

中国微半导体中标22台刻蚀设备，其中华虹半导体13台，上海吉它8台，株州CRRC时代1台微半导体CCP刻蚀技术非常优秀，覆盖65nm到5nm，在5nm以下也进展顺利2021年生产交付CCP蚀刻设备298台，产量同比增长40%

薄膜沉积工艺方面，拓晶科技中标11台薄膜沉积设备，略低于林凡半导体和应用材料15台的总和拓晶科技的主要产品系列为等离子体增强化学气相沉积设备，原子层沉积设备和亚大气压化学气相沉积设备，广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上工艺集成电路制造生产线，并开展了10nm及以下工艺产品的验证测试

目前国内晶圆厂正进入加速建设期虽然国内设备制造商的渗透率不足，但他们已经开始追赶，在光刻，蚀刻，薄膜沉积，涂层和显影等方面取得了突破北方华创，中微半导体，拓晶科技等设备商订单激增，进展显著

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